9月6日，荷蘭政府今天發布了關于兩款浸沒式 DUV（深紫外光） 光刻機出口的最新許可要求，該規定將于9月7日正式生效。

根據更新后的許可要求，并根據美國出口管理條例 734.4.(a).(3)，ASML后續需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可，才能出貨其 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 浸沒式光刻系統。此前，荷蘭的出口管制許可要求已適用于 TWINSCAN NXT:2000i 及后續 DUV 浸沒式系統。ASML 的 EUV 系統的銷售也需遵守許可要求。

ASML官方表示，認為這一新規主要是協調頒發出口許可證的方式，即由美國政府發放許可變更為由荷蘭政府發放許可。

ASML在聲明中指出，由于這是技術性調整，因此預計不會對公司2024年的財務前景，或在2022年11月投資者日傳達的長期情景產生任何影響。

編輯：芯智訊-浪客劍