世偉洛克 文章 最新資訊
創(chuàng)新,引領未來
- 原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)工藝,是當前及未來工藝節(jié)點相關的收縮及更復雜器件幾何形狀上沉積薄層材料的關鍵技術。如今,隨著技術節(jié)點以驚人的速度持續(xù)進步,精確而又高效地生成關鍵器件特征成為了一項持久的挑戰(zhàn)。 原子層沉積工藝依靠專業(yè)的高性能原子層沉積閥在數(shù)百萬個脈沖中輸送精確的化學品劑量,構建形成材料層。為了達到原子級精密度和高生產良品率,輸送這些脈沖式化學品劑量的閥門必須日益精確且一致。世偉洛克一直致力于此,不斷刷新ALD閥使用壽命、響應時間、高溫高流量應用
- 關鍵字: 原子層沉積 ALD 世偉洛克 超高純隔膜閥
深耕中國,世偉洛克將最新科技引入中國區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展中心
- 總部位于美國的全球領先的流體系統(tǒng)解決方案開發(fā)商和制造商世偉洛克公司宣布其將在中國舉辦10場2010流體系統(tǒng)技術研討會,深入覆蓋二三線城市。世偉洛克將貫徹其持續(xù)改進和創(chuàng)新的核心價值觀,與當?shù)乜蛻粢煌窒砹黧w系統(tǒng)性能管理的先進技術和經(jīng)驗。 在每一場技術研討會上,世偉洛克的流體系統(tǒng)專家將與來自中國著名公司的百多名行業(yè)嘉賓,包括自總經(jīng)理到系統(tǒng)工程師的多方精英,共同探討業(yè)界領先技術并分享實際案例和經(jīng)驗。自2006年起,世偉洛克公司每年都持續(xù)舉辦該類技術研討會,歷屆與會者一致認為此研討會對其日常工作很有幫助
- 關鍵字: 世偉洛克 半導體
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世偉洛克介紹
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