- 近日，應用材料公司宣布推出先進的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蝕設備，它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關重要的納米制造技術系統。Tetra III通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以內，同時把臨界尺寸損失減小到10nm以下，使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學臨近修正技術。該系統為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術應用提供無差錯、高產能的刻蝕工藝。
應用材料公司資深副總裁，刻蝕、清潔、前道
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45納米 光掩膜刻蝕 應用材料公司
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