幾十年來,硅一直是電力電子領域無可爭議的領導者。但隨著硅達到其性能極限,氮化鎵 (GaN) 功率器件正在取得進展。憑借更快的開關速度和更高的效率,氮化鎵已經在消費類快速充電器中發揮了重大作用,與硅相比,實現了系統級成本、空間和功耗節省。然而,盡管具有所有功率處理特性,但基于氮化鎵的橫向高電子遷移率晶體管 (HEMT) 一直在努力進入千瓦級功率設計。瑞薩電子正試圖通過其最新的高壓氮化鎵功率 FET 來改變這一現狀,該 FET 專為要求苛刻的系統而設計,從數據中心的 AI 服務器電源和不間斷電源 (