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無焊接連接 文章 最新資訊

用于尖端IC的無焊接連接

  • 隨著焊料在最新 IC 中成為問題,發(fā)明家 Anthony Paul Bellezza 設(shè)計了兩種基本工藝,在不使用焊料的情況下為集成電路和其他非電路連接進(jìn)行互連。根據(jù) Bellezza 的工藝專利申請,其特點包括:'(1) 低溫熔融:在 CMOS 熱預(yù)算范圍內(nèi),在 400 °C 以下運(yùn)行,甚至低至 200 °C。該工藝使用 50-100 PSI 10 的壓力和低溫?zé)崃縼韯?chuàng)建熔斷互連。(2)襯底工程:采用鐵/鍍鎳處理形成馬氏體晶體,在加熱過程中吸收碳石墨烯。這創(chuàng)造了真正的類似合金的熔合。(3)無焊集
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無焊接連接介紹

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