- 近日，英國南安普敦大學宣布成功開設了一個尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個分辨率達5納米以下的中心，也是歐洲首個此類電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導體芯片。據南安普敦大學介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫電子束光刻系統。這是全球第二臺200kV系統（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統可在200毫米晶圓上實現低于5納米級精細結構的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側壁幾乎垂直，有助于開發電子和光子學領域研究芯片中的新結構。JEOL的另
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5納米 電子束光刻中心
電子束光刻中心介紹
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