盛美半導體設備(上海)有限公司日前在 Semicon China上宣布了2013年第一季度一舉獲得兩臺單片背面清洗機訂單，分別來自上海華虹 NEC 電子有限公司以及中科院微電子所。這兩臺背面清洗機的訂單，反映了盛美在技術上不斷推陳出新，填補了國內單片背面清洗機的空白。通過技術上的不斷創新，提高了公司的核心競爭力。
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盛美 單片背面清洗機 晶圓
盛美半導體設備(上海)有限公司3月17日在上海舉行的中國半導體國際展上展出一臺12英寸單片兆聲波清洗設備。這是國內首臺具有自主知識產權的“零損傷”兆聲波半導體清洗設備。
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盛美 半導體 兆聲波
3月17日，新成立的盛美半導體(上海)有限公司在中國半導體國際展上展出了十二英寸單片兆聲波清洗設備，本設備用于65nm技術節點以下的十二英寸高端硅片清洗。盛美獨家具有自主知識產權技術可使兆聲波能量在12英寸硅片上非常均勻地分布(非均勻度的一個均方差小于2%)，本技術在不損傷硅片微結構的條件下使顆粒去除效率達到99.2%。
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