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離子注入 文章 最新資訊

建設高端半導體裝備,SRII賦能新一代集成電路制造

  • 思銳智能攜業界尖端的離子注入(IMP)和原子層沉積(ALD)技術亮相SEMICON China 2024,持續建設全球一流的高端半導體制造裝備,廣泛賦能集成電路、第三代半導體等諸多高精尖領域。展會現場精彩瞬間思銳智能離子注入機(IMP)模型根據SEMI的數據,受芯片需求疲軟等影響,2023年全球半導體設備銷售額為1056億美元,同比下降1.9%,而中國大陸地區半導體設備銷售額同比增長28.3%。中國對成熟節點技術表現出了強勁的需求和消費能力。縱觀全局,離子注入已成為半導體器件制備中最主要的摻雜方法,是最基
  • 關鍵字: 高端半導體裝備  SRII  集成電路制造  思銳智能  SEMICON China  離子注入  IMP  原子層沉積  ALD  

離子注入技術簡介

  • 離子注入技術介紹:把摻雜劑的原子引入固體中的一種材料改性方法。簡單地說,離子注入的過程,就是在真空系統中,用經過加速的,要摻雜的原子的離子照射(注入)固體材料,從而在所選擇的(即被注入的)區域形成一個
  • 關鍵字: 離子注入  技術簡介    

離子注入機失效檢測新方法

  • 隨著器件線寬和層厚的縮小,離子注入計量設備對硅片上雜質分布均勻性進行直接監測的能力已經開始受到限制。同時,特征尺寸的縮小和參數性能的要求,使關鍵注入參數的工藝窗口不斷變窄,而離子束電流和硅片尺寸卻在不
  • 關鍵字: 離子注入  方法  失效檢測    

離子注入技術原理

  • 離子注入技術原理離子注入是將離子源產生的離子經加速后高速射向材料表面,當離子進入表面,將與固體中 ...
  • 關鍵字: 離子注入  技術原理  

離子注入設備和方法

  • 離子注入設備和方法最簡單的離子注入機(圖2)應包括一個產生離子的離子源和放置待處理物件的靶室。當 ...
  • 關鍵字: 離子注入  設備  方法  
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離子注入介紹

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