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芯片良率 文章 最新資訊

生成式人工智能提高芯片良率并減少制造缺陷

  • 2021 年,全球汽車制造商因無法獲得一美元微控制器而停止生產。先進半導體的等待時間從 12 周躍升至超過 26 周,這表明全球供應鏈已經變得多么脆弱。良率損失和制造缺陷不僅僅是技術問題,它們是影響采購領導者、供應鏈經理甚至國民經濟的戰略挑戰。與此同時,對半導體的需求繼續持續增長。預計到 2030 年,全球消費將以 7% 至 8% 的復合年增長率增長,而產能僅以每年 5% 左右的速度增長。這種不匹配使每片晶圓都變得非常有價值。即使先進技術節點的良率僅提高 2%,每年也可以釋放約 150,000 片晶圓,這
  • 關鍵字: 生成式人工智能  芯片良率  制造缺陷  

泛林集團推出全球首個晶圓邊緣沉積解決方案以提高芯片良率

  • 近日,泛林集團 (Nasdaq: LRCX) 推出了Coronus DX產品,這是業界首個晶圓邊緣沉積解決方案,旨在更好地應對下一代邏輯、3D NAND和先進封裝應用中的關鍵制造挑戰。隨著半導體芯片關鍵尺寸的不斷縮小,其制造變得越來越復雜,在硅晶圓上構建納米級器件需要數百個工藝步驟。僅需一個工藝步驟,Coronus DX 可在晶圓邊緣的兩側沉積一層專有的保護膜,有助于防止在先進半導體制造過程中經常發生的缺陷和損壞。這一強大的保護技術提高了良率,并使芯片制造商能夠實施新的前沿工藝來生產下一代芯片。Coron
  • 關鍵字: 泛林集團  晶圓邊緣沉積  芯片良率  
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