后摩爾時代,十大EDA驗證技術趨勢展望

• 過去的40 年里，不斷發展的工藝和架構設計共同推動著摩爾定律持續前進，即使是今天也還有3 nm、2 nm、1 nm 先進工藝在地平線上遙遙可及。但是現實趨勢來看，更高工藝、更多核、更大的芯片面積已經不能帶來過去那種成本、性能、功耗的全面優勢，摩爾定律確實是在進入一個發展平臺期，也意味著我們進入了“后摩爾時代”。半導體設計產業開始不僅是通過工藝的提升，而是更多考慮系統、架構、軟硬件協同等，從系統應用來導向、從應用來導向去驅動芯片設計，讓用戶得到更好的體驗。而這些也是EDA 行業需要給半導體賦能的關鍵方向。芯
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