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Inversion Semiconductor旨在實現更明亮、更快速的光刻技術

  • Inversion Semiconductor Inc.(加利福尼亞州舊金山)是一家 2024 年的初創公司,計劃利用粒子加速為下一代光刻技術開發更亮、更可調的光源。該公司表示,與現有系統相比,它將能夠以高達 15 倍的速度制造芯片,并且具有更精細的功能。Inversion 加入 Lace Lithography 是一家初創公司,希望取代或至少被視為成熟的光刻市場領導者 ASML Holding NV 的替代品。當然,這兩家初創公司都看到了使用 13.5nm 波長的極紫外光進行光刻膠閃光曝光的進一步開發的
  • 關鍵字: Inversion Semiconductor  光刻技術  
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