近日，YouTube博主TechTechPotato發布與臺積電資深副總暨副共同營運長張曉強29分鐘的訪談。張曉強在訪談中回應了關于臺積電何時采用高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）光刻設備的問題。

在去年年底，光刻機大廠ASML就宣布已向英特爾發運了全球首臺High NA EUV光刻機。隨后在今年的4月18日，英特爾公司宣布在俄勒岡州希爾斯伯勒的研發基地達成了先進半導體制造領域的一個重要里程碑，完成了業界首個商用High NA EUV光刻機的組裝。該設備將會首先被用于Intel 18A 的測試，最終會被用于2026年Intel 16A制程的量產。

此前，臺積電業務開發資深副總經理張曉強曾公開表示，雖然對High NA EUV能力印象深刻，但設備價格超過 3.5 億歐元（3.78 億美元）。目前的標準型EUV光刻機，仍可以支持臺積電尖端制程的生產到2026年，臺積電最新曝光的尖端制程A16也將會繼續采用標準型EUV光刻機來進行生產。

不過，隨后有媒體報道稱，雖然臺積電預計在A16制程技術后的產品才考慮采用High NA EUV光刻機，但是魏哲家于今年5月密訪ASML總部的動作引發了大家的議論，認為臺積電有可能會修正其原定的計劃，提前采用High NA EUV光刻機。

對此，張曉強在最新的采訪中回應稱，“相信臺積電研發團隊將繼續專注于新的EUV應用，這明顯包含High NA EUV設備，我們將選擇合適的技術節點來使用，畢竟需要考慮很多因素。”

張曉強進一步指出，“這顯然存在可擴展性因素，還有制造成本因素，所以我相信我們的研發團隊會做出最好的決定，在哪個時間點、哪個制程節點選擇下一代EUV來應用。”

編輯：芯智訊-林子