1986年，電子部廈門集成電路發展戰略研討會，提出“七五”期間我國集成電路技術“531”發展戰略，即普及推廣5微米技術，開發3微米技術，進行1微米技術科技攻關,并提出建設南北兩個IC基地，南方基地在江蘇、上海、浙江長江三角洲地帶，北方基地在北京。