Altatech Semiconductor獲得了一份多功能AltaCVD平臺訂單，該訂單來自德國慕尼黑Fraunhofer Research Institution。該200mm AltaCVD系統可用于等離子體增強CVD工藝，也可用于低于氣壓的CVD工藝，Fraunhofer中心將用該設備在硅晶圓和SOI晶圓上淀積介質層。