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常用半導體器件-晶體三極管學習筆記

作者: 時間:2016-12-07 來源:網絡 收藏

晶體三極管的結構和符號】

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/201612/327585.htm

1】晶體管結構

1)發射區: 發射區摻雜濃度很高,用于發射自由電子

2)基區: 基區很薄而且雜質濃度很低,發射區發射擴散過來的自由電子一部分將和基區的空穴中和

3)集電區: 面積很大,自由電子經過基區后,多下來的自由電子由于漂移運動將到達集電區

2】晶體管的符號

【晶體管的電流放大作用】

1】晶體管內部載流子的運動

1)VCC電壓大于VBB,使得發射結正向偏置,集電結反向偏置(上邊是集電結)

2)發射結加正向電壓,擴散運動形成發射極電流IE,注意,發射區雜質濃度高,所以擴散出來的自由電子很多

3)擴散運動到基區的自由電子與空穴的復合運動形成基極電流IB,由于電源VBB的作用,復合運動源源不斷

4)集電結加反向電壓,漂移運動形成集電極電流IC,注意,雖然自由電子量很大,但是由于基區是P型,所以在基區,自由電子仍然是少子

5)其他電流比較小,可以忽略

2】晶體管的電流分配關系

從圖中容易看出以下電流關系

IE = IEN + IEP = ICN + IBN + IEP

IC = ICN + ICBO

IB = IBN + IEP - ICBO

從外部看: IE = IC + IB

3】晶體管的放大系數

【晶體管的共射特性曲線】

該電路稱為基本共射放大電路

1】輸入特性曲線

輸入特性曲線描述:壓降UCE一定的情況下,基極電流IB與發射結壓降UBE之間的函數關系

1)當UCE = 0 時,相當于集電極和發射極短路,因此,輸入特性曲線與PN結伏安特性相類似。

2)由發射區注入基區的非平衡少子(自由電子)有一部分越過基區和集電結形成集電極電流IC,使得在基區參與復合運動的非平衡少子隨

UCE增大而減少,要獲得同樣的IB,就應該加大UBE,所以UE增大曲線右移

3)當UCE增大到一定值后,集電結的電場已經足夠強大,可以將發射區注入基區的絕大部分非平衡少子收集到集電區去,因此再增大UCE,

IC也不明顯增大了

2】輸出特性曲線

輸出特性曲線描述:基極電流IB為一常量時,集電極電流IC與管壓降UCE的函數關系

1)當UCE從零逐漸增大時,集電結電場隨之增強,收集基區非平衡少子的能力逐漸增強,IC增大

2)當UCE增大到一定數值時,集電結電場足以將基區非平衡少子的絕大部分收集,UCE再增大,IC幾何不變

3)截止區:發射結電壓小于開啟電壓UON,集電結反向偏置即UCE > UBE

4)放大區:發射結正偏,集電結反偏,即UBE > UON 且 UCE >= UBE

5)飽和區:發射結與集電結都正偏,即UBE > UON,且 UBE > UCE

6)飽和的現象:UBE增大時,IB隨之增大,但IC增大不多或基本不變

【晶體管的主要參數】



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