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英特爾10 nm工藝引入全新晶體管技術追平7 nm

作者: 時間:2020-08-17 來源: 收藏

雖然英特爾在推進工藝制程升級的道路上進展緩慢,長期停留在14 nm節點上,被消費者批評創新乏力,但有一點英特爾做得不錯,就是不在工藝制程的描述上玩數字游戲,英特爾這方面表現是強于其它芯片代工廠的。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/202008/417125.htm

最近英特爾終于帶來了一些好消息,除了下一代(第11代)酷睿處理器的工藝制程全面進軍10 nm節點以外,英特爾還將在10 nm工藝制程中加入全新的“SuperFin”晶體管。基于這一新技術生產的第11代酷睿處理器,相較于同樣是10 nm工藝制程的部分第十代酷睿處理器,性能取得了大幅度提升,幾乎可以等效于7 nm工藝制程的水平。

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這項“SuperFin”技術能夠提供增強的外延源極/漏極、改進的柵極工藝和額外的柵極間距,并結合其它方面的改進共同達到增強性能的目的。英特爾首席架構師Raja Koduri表示:“這是一項行業內領先的技術,領先于其他芯片制造商的現有能力。”

據悉10 nm SuperFin技術將用在代號為“Tiger Lake”的英特爾第11代酷睿處理器上,這一代處理器將于今年的假日季上市,按照慣例應該會率先推出第11代酷睿移動處理器。




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