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工信部推廣國產DUV光刻機,最小套刻精度≤8nm

作者: 時間:2024-09-18 來源:SEMI 收藏

大半導體產業網消息,自中華人民共和國工業和信息化部官網獲悉,日前,工信部宣布印發《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024 年版)》。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/202409/462993.htm

其中,在《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》電子專用裝備目錄下,集成電路設備方面包括:氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤。

在“工信微報”官方公眾號中提到,重大技術裝備是國之重器,事關綜合國力和國家安全。中國首臺(套)重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品,包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。該文件的發布旨在促進首臺(套)重大技術裝備創新發展和推廣應用,加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。



關鍵詞: 國產光刻機 8nm

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