- 雖然隨機缺陷將產量與其量子性質導致的EUV光刻的實際分辨率聯系起來[1]，但EUV工藝的極低產量更容易與使用沒有薄膜的EUV掩模有關。薄膜是掩模上的薄膜膜覆蓋物（無論波長如何：EUV、DUV和i-line），用于防止顆粒落在掩模上的圖案上。顆?？梢月湓诒∧ど希鼈儾粫蛴。驗樗鼈儠Ы埂Ｈ绻麤]有薄膜，僅僅是讓一些顆粒落在掩模上，產量就會顯著下降[2]。令人驚訝的是，最近有報道稱，EUV用戶通常不使用薄膜[3,4]。關鍵原因是薄膜可能會因EUV光照射而損壞甚至破裂[5]。臺積電還在2023年報告稱，其E
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薄膜 EUV光刻 低產量
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