- 9 月，佳能推出了這項技術的第一個商業版本，有朝一日可能會顛覆最先進的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠對小至 14 納米的電路特征進行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統提供的優勢可能會挑戰價值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進的芯片制造中占據主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統完全不同，后者完全由總部位于荷
- 關鍵字：
納米壓印光刻技術 EUV? 佳能 新芯片制造系統
新芯片制造系統介紹
您好，目前還沒有人創建詞條新芯片制造系統!
歡迎您創建該詞條，闡述對新芯片制造系統的理解，并與今后在此搜索新芯片制造系統的朋友們分享。
創建詞條
關于我們 -
廣告服務 -
企業會員服務 -
網站地圖 -
聯系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473
