- 半導體制程技術持續精進，隨之而來的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效應，恐導致設計結果的不確定性，因此如何建立完善的統計模型(StatisticalModel)，同時在ICDesign的階段能夠正確地應用統計模型，并且可以進行快速準確的良率分析，有效避免電路性能與良率(Yield)遭受影響，可謂當前重大課題。
回顧2012年6月落幕的DesignAutomationConference(DAC)2012大會，個中最大亮點，無疑正是ProPlus領先EDA業界推出的「整合良率導
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ProPlus EDA NanoYield
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