- KLA-Tencor宣布推出 TeraScanHR 系統 – 業內首套新一代 45 納米生產級光掩膜檢測系統。45 納米及以上節點生產中缺陷尺寸小，并采用極為復雜的 OPC*，這要求檢測設備具有極高的分辨率，TeraScanHR 滿足了這一要求，同時大大改進了生產效率，客戶不僅可以獲得 45 納米關鍵層生產的最高靈敏度，而且還可降低非關鍵層和芯片生產的單位檢測成本。
“我們新的 TeraScanHR 系統為光掩膜制造商帶來了非凡的新技術和經濟效益，可有效降低多代光掩膜生產的成本，其中包括異常復
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KLA-Tencor TeraScanHR 測量 測試 光掩膜檢測系統
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