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Toppan宣布28nm光刻掩膜準備就緒 通過IBM認證

  • 　　Toppan Printing公司在同IBM的合作下，開發(fā)出新的光刻掩膜制造技術，可用于制造32nm和28nm掩膜。 　　該公司稱，這些掩膜在日本Asaka工廠制成，通過了IBM的認證。 　　Toppan從45nm節(jié)點就開始和IBM合作，去年雙方簽署了32nm掩膜技術的最后階段的合作協議，以及22nm掩膜的合作開發(fā)協議。
  • 關鍵字： Toppan  納米  光刻掩膜  
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