中國科研團(tuán)隊(duì)在石版制造技術(shù)方面取得了新進(jìn)展

• 焦平面陣列（FPA）因其高度的積分、魯棒性和強(qiáng)大的動(dòng)態(tài)適應(yīng)性，在偏振成像領(lǐng)域引起了廣泛關(guān)注。制造FPA的關(guān)鍵在于制造陣列各向異性亞波長光柵。傳統(tǒng)技術(shù)如納米印刻和基于掩膜的光刻依賴高精度模板，限制了靈活性，而電子束光刻等直接寫入方法則難以滿足大面積制造的效率要求。最近，清華深圳國際研究生院李星輝副教授領(lǐng)導(dǎo)的研究團(tuán)隊(duì)在焦平面超像素陣列的光刻制造方面取得了新進(jìn)展，為中紅外偏振成像系統(tǒng)的關(guān)鍵部件制造提供了新穎解決方案。針對(duì)中紅外偏振成像應(yīng)用，團(tuán)隊(duì)提出了單周期接觸-干涉混合光刻技術(shù)。該方法使用不含細(xì)光柵條紋結(jié)構(gòu)的窗
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