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SK海力士領先全球量產12層堆疊HBM3E

發布人:芯智訊 時間:2024-11-29 來源:工程師 發布文章

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9月26日,韓國存儲芯片大廠SK海力士宣布,率先業界開始量產12層堆疊的HBM3E內存,達成了現有HBM產品中最大36GB容量的目標。

SK海力士表示,高帶寬內存(HBM)是一種高附加值、高性能的內存。與現有的DRAM產品相比,通過垂直互聯多個DRAM芯片,使數據處理速度顯著提高。該產品按照HBM第1代(HBM)-第2代(HBM2)-第3代(HBM2E)-第4代(HBM3)-第5代(HBM3E)的順序開發,HBM3E是HBM3的擴展版。

SK海力士指出,現有的HBM3E最大容量為24GB,由8顆3GB DRAM芯片垂直堆疊而成,公司將在2024年底前向客戶提供相關產品,這是繼2024年3月在業界率先向客戶供應8層堆疊HBM3E內存之后,僅時隔6個月再次展現出其壓倒性的技術實力。

SK海力士強調,自2013年全球首次推出第一代HBM(HBM1)內存,到先前推出第五代HBM(HBM3E)之后,公司是唯一一家開發完成,并能向市場供應全系列HBM產品的企業。SK海力士率先成功量產12層堆疊的產品,在針對AI的內存所需要的速度、容量、穩定性等所有方面都已達到全球最高水準,不僅滿足了AI企業日益發展的需求,同時也進一步鞏固了SK海力士在針對AI的內存市場的領導者地位。

SK海力士進一步指出,該新產品的運行速度提高至現有內存的最高速度9.6Gbps,其是在以搭載四個HBM的單個GPU運行大型語言模型(LLM)Llama 3 70B時,每秒可讀取35次700億個整體參數的水準。而堆疊12顆3GB DRAM芯片,達成與現有的8層堆疊產品相同的厚度,同時容量提升50%。為此,SK海力士還將單個DRAM芯片制造得比以前薄40%,并采用硅通孔技術(TSV)技術垂直堆疊。

此外,SK海力士也解決了在將變薄的芯片堆疊更多時產生的結構性問題。公司將其核心技術先進MR-MUF技術應用到此次產品中,放熱性能較上前一代提升了10%,并增強了控制翹曲問題,從而確保了穩定性和可靠性。

SK海力士AI Infra業務社長金柱善表示,“我們再次突破了技術壁壘,證明了我們在面向AI的內存市場中獨一無二的主導地位。為了迎接AI時代的挑戰,我們將穩步準備下一代內存產品,以鞏固全球頂級針對AI的內存供應商的地位。”

編輯:芯智訊-林子


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關鍵詞: 芯片

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