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中芯國際采用Cadence公司 DFM 和低功耗硅技術

—— 構建其65納米參考流程
作者: 時間:2010-12-10 來源:電子產品世界 收藏

  全球電子設計創新領先企業設計系統公司,今天宣布中國最大的半導體晶圓廠集成電路制造有限公司,已經將® Silicon Realization產品作為其參考流程4.1版本(Reference Flow 4.1)可制造性設計(DFM)以及低功耗技術的核心。以 Encounter Digital Implementation System為基礎,兩家公司合作為系統級芯片(SoC)設計提供了一個完整的端到端的Silicon Realization流程。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/115371.htm

  經過嚴格評估,選擇了Cadence Silicon Realization產品,基于其強大的層次化流程 (hierarchical flow),應用于大規模和高質量的設計。認為此緊湊結合了功能性、物理和電氣領域的整合流程,可用于評估、邏輯設計、驗證、物理實現與設計內簽收,并大大提高設計師的效率、易用性, 及獲得更具確定性的結果 (deterministic results)。

  中芯國際流程中包含的Cadence Silicon Realization技術包括Incisive® Enterprise Simulator、 Encounter® RTL Compiler、 Encounter Test、 Encounter Conformal® Low Power、 Encounter Conformal Equivalence Checker、 Encounter Digital Implementation System、 QRC Extraction、 Encounter Timing System、 Encounter Power System、 Litho Physical Analyzer、 Litho Electrical Analyzer、 Cadence CMP Predictor 和 Assura® Physical Verification。

  “我們的共同客戶將會從Cadence對參考流程4.1的貢獻中大大獲益,它解決了在節點上遇到的兩個重要問題,設計的余量和良率(design margins and yields)”中芯國際設計服務部資深總監朱敏說。“全面應用端到端Cadence Silicon Realization流程進行數字設計、驗證與實現,結合我們的參考流程,將會讓我們的客戶達到更高的效率、生產力以及提高芯片的質量,縮短上市時間。”

  Cadence最近公布了一款全新的全盤式Silicon Realization方法,芯片開發不再是傳統的單點工具拼貼,而是采用流線化的端到端綜合技術、工具與方法學。這種新方法著重于提供能確保達成Silicon Realization的產品和技術所需的三個條件:統一的設計意圖、提取 (abstraction) 和收斂 (convergence)。這種方法是Cadence公司其 EDA360 (Electronic Design Automation 360, 一個新的電子自動化設計系統) 戰略的一個關鍵組成部分,目標是提高生產力、可預測性和可盈利性,同時降低風險。

  “作為中芯國際的長期合作伙伴,很高興再次與他們的技術專家合作,幫助我們的共同客戶開創一條Silicon Realization的快車道,”Cadence產品管理部總監David Desharnais說。“與領先的客戶和中芯國際這樣的設計鏈合作伙伴合作,是實現Cadence EDA360愿景的關鍵,也是實現更高生產力、可預測性和可盈利性的關鍵。”



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