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基于ARM的擴散/氧化控制系統的設計

作者: 時間:2010-11-15 來源:網絡 收藏

隨著信息化、智能化、網絡化的發展,嵌入式系統得到了前所未有的發展。由于嵌入式系統具有體積小、性能強、可靠性高等特點,目前廣泛應用于工業控制、控制儀表、等各個領域。擴散/氧化控制系統是為擴散氧化爐設計的控制系統。擴散/氧化爐是集成制造的重要的工藝設備之一。本系統主要由高精度的溫度控制系統、推拉舟控制系統、氣路控制系統組成。本系統為擴散/氧化爐提供高精度的擴散氧化環境,以生產出高質量的半導體產品。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/151347.htm

  本文采用的是處理器S3C2440,它具有工作頻率高、片上資源豐富等特點,可以良好地應用于本系統。且系統設計中移植了嵌入式WinCE,使得控制系統具有實時性強、編程方便、可擴展性強等特點。

  1 擴散/氧化控制系統的總體設計

  如圖1所示,系統的CPU及擴展模塊是以S3C2440為核心的開發板。在系統中有溫度控制子系統、推拉舟控制子系統、氣路控制子系統。上述3個子系統為閉環系統,分別完成對溫度、步進電機、氣體質量流量計的檢測和控制。觸摸顯示屏作為人機界面,用于控制和監視系統的運行。



圖1 系統結構框圖

  2 控制系統的硬件設計

  2.1 微處理器S3C2440

  本設計采用三星S3C2440處理器。它的主頻為400 MHz,外擴存儲器NAND Flash為128 MB、SDRAM為64 MB,完全滿足控制系統運行的要求。該處理器片內資源有1個LCD控制器(支持TFT帶有觸摸屏的液晶顯示屏)、SDRAM控制器、117位通用I/O口和24位外部中斷源等。本系統觸摸屏為3.5英寸,分辨率240×320,滿足系統要求。

  2.2 溫度控制子系統硬件設計

  溫度控制子系統要求4路溫度采集,其中一路環境溫度,另外3路擴散/氧化爐的溫度。系統要求溫度范圍為0~1 700℃,全量程分辨率為0.1℃。

  為滿足系統要求,測量擴散/氧化爐的可以選用熱電偶。為滿足系統測量精度的要求,同時系統轉換的速度要求不是很快,所以采用雙積分型轉換器ILC7135。ILC7135精度高、抗干擾性能好、價格低,應用十分廣泛。ICL7135其轉換數字范圍為-19 999~+19 999,即分辨率為1/40 000。為了增加測量精度,需要對熱電偶輸入的信號進行濾波。因為本系統主要受工頻信號的干擾,所以濾波過程主要濾掉工頻信號。信號放大時根據系統的要求可以選用OP07、OP27等高精度的放大器。圖2為ILC7135的轉換原理圖。因為S3C2440的引腳高電平為3.3 V,所以此與CPU連接時可以使用電平轉換芯片SN74ALVCl64245或74LVC4254等。

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