作為半導體卡脖子的技術之一,很多人只知道光刻機,卻不知道光刻膠的重要性,這個市場也是被日本及美國公司壟斷,TOP5廠商占了全球85%的份額。

國產光刻膠此前只能用于低端工藝生產線中,能做到G 線(436nm)、I 線 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進口,EUV光刻膠目前還沒有公司能生產,基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的,因為國內目前還沒有EUV工藝量產,193nm的ArF光刻膠更加重要,目前國內有多家公司正在攻關中,這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進工藝。

今天,南大光電在互動平臺表示,公司的ArF光刻膠正在按計劃進行客戶測試,這意味著國內的ArF光刻膠技術取得了重要突破,從研發開始走向生產。

根據南大光電公司之前的 消息,公司于2017年開始研發“193nm 光刻膠項目”,已獲得國家“02 專項”的相關項目立項,公司計劃通過3年的建設、投產及實現銷售,達到年產25噸 193nm(ArF干式和浸沒式)光刻膠產品的生產規模,產品將滿足集成電路行業需求標準。