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聯電與Cadence攜手22納米模擬與混合信號設計認證

—— 客戶可運用此共同合作開發5G、物聯網、顯示、其他新興應用設計
作者: 時間:2022-08-24 來源:電子產品世界 收藏

聯華電子與于今(8月24)日共同宣布,(Analog/Mixed Signal, AMS)芯片設計流程獲得聯華電子22納米超低功耗 (22ULP)22納米超低漏電(22ULL)制程認證,此流程可優化制程效率、縮短設計時間,加速5G、物聯網和顯示等應用設計開發,滿足日漸增高的市場需求。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/202208/437682.htm

 

22納米制程具有超低功耗和超低漏電的技術優勢,可滿足在科技創新發展下,使用時間長、體積小、運算強的應用需求。經認證的 AMS設計流程,提供了整合可靠度接口 (Unified Reliability Interface, URI),在22納米制程設計時,可確保電路可靠度及使用壽命,并提供優化的設計,讓芯片設計更精確完美。此外,設計流程并提供示范電路,讓用戶在設計時可靈活套用,提高設計效率與精確性。

 

Cadence AMS 流程由根據22納米制程設計套件(PDK)的整合解決方案和方法組成,以加速完成設計,包括:

·       Virtuoso?平臺包括原理圖編輯、仿真設計環境(ADE)和布局 XL 工具支持。

·       Spectre? AMS Designer結合Spectre X Simulator Xcelium Logic Simulation引擎的強大功能,為由晶體管、行為、時序和寄生模塊的組成設計提供一致和準確的結果。

·       Voltus?-Fi客制化電源完整性解決方案,以最新圖形用戶接口則提供電子遷移與電阻電位降(EM/IR)分析,可快速輸入所需的EM規則。

 

聯華電子組件技術開發及設計支持副總經理鄭子銘表示,「為全球半導體晶圓專工業的領導者,并持續開發先進的特殊制程以供應快速成長的5G、物聯網和顯示等芯片市場。相較于28納米制程,聯電的22 納米制程能再縮減10%的晶粒面積、擁有更佳的功率效能,以及強化射頻性能等特點。這次與Cadence的合作,為聯電22 ULP 22 ULL制程技術的芯片客戶提供業界領先的可靠與高效率的流程方案,并獲得設計上客制化的支持,協助客戶提升生產力,并快速完成全芯片設計定案,增進芯片設計的速度與效率。」

 

Cadence客制化ICPCB事業群產品管理副總裁Ashutosh Mauskar提到:「隨著5G、物聯網和智能穿戴裝置設計復雜度的日益增加,技術的提升將是先進芯片設計成功的至要關鍵。Cadence支持的22ULP22ULL AMS設計流程,專為聯電芯片技術作客制的優化,提供設計、驗證與設計實現等全方位的解決方案。藉由此CadenceUMC的合作,共同的客戶能夠在 22ULP/ULL上快速實現創新的混合信號設計。」

 




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