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日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機

作者: 時間:2023-12-07 來源:SEMI 收藏

據日媒報道,芯片公司表示,正在北海道建設芯片工廠,目標是2027年量產制程芯片。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/202312/453628.htm

該公司宣布,決定在2024年年底引入,并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學習EUV極紫外光刻技術。目標是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學習先進芯片技術。



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