三星電子與約翰霍普金斯大學應用物理實驗室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷卻技術的進展。Peltier器件通過利用珀爾帖效應進行冷卻，其中向半導體施加電流會導致一側冷卻，而另一側會升溫。由于這種方法不依賴制冷劑，因此它正在成為傳統冷卻系統的一種有前途的環保替代方案。

通過首次利用新開發的薄膜 Peltier 半導體器件，并通過先進的納米工程技術進行增強，研究團隊成功創造并展示了高性能 Peltier 制冷機。

這種薄膜 Peltier 制冷機的冷卻效率超過了傳統蒸汽壓縮系統的冷卻效率，為下一代無制冷劑制冷機的商業化鋪平了道路。

與傳統的蒸汽壓縮技術相比，帕爾貼冷卻以更簡單的設計提供更快、更精確的溫度控制，使其適用于廣泛的行業，包括家用電器、半導體、醫療設備、汽車電子和數據中心。

在 Peltier 半導體器件中實現卓越的冷卻效率對于高性能 Peltier 冷卻技術的商業化至關重要。

三星和 APL 研究團隊通過引入新的薄膜半導體材料以及小型化和輕量化設計，將珀爾帖器件的效率提高了近 75%，從而實現了這一目標。

新開發的 Peltier 器件在資源效率和可制造性方面也具有顯著優勢。該團隊證實，創新的制造工藝將所需的帕爾貼材料量大幅減少到典型體積的 1/1,000 左右，同時還簡化了生產步驟。這一突破提高了可擴展性并支持大規模生產，有望在成本效益和環境可持續性方面取得重大進步。

世界上第一臺采用納米薄膜技術的高性能帕爾貼制冷機代表著向無制冷劑冷卻的飛躍