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國內首條12寸硅光芯片流片平臺投用

作者: 時間:2025-11-12 來源:財聯社 收藏

財聯社11月11日電,據“中國光谷”消息,近日,基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產化硅光PDK(工藝設計套件)、TDK(測試設計套件)及ADK(封裝設計套件)服務平臺正式在光谷投用,該平臺由國家信息光電子創新中心(NOEIC)建設運營,標志著光谷企業在硅光領域實現又一關鍵突破。


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