德州儀器 DLP? 技術為高級封裝帶來高精度數字光刻解決方案
—— 新型數字微鏡器件配備實時校正功能，助力設備制造商實現高分辨率印刷規模化生產，進一步提升產量與良率
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前沿動態
德州儀器 (TI) 近日推出新型工業數字微鏡器件 (DMD) DLP991UUV ，助力新一代數字光刻技術發展。作為 TI 迄今最高分辨率的直接成像解決方案，該器件具備 890 萬像素、亞微米級分辨率能力及每秒 110 千兆像素的數據傳輸速率，在滿足日益復雜的封裝工藝對可擴展性、成本效益和精度要求的同時，消除對昂貴掩模技術的依賴。
關鍵所在
無掩模數字光刻機正廣泛應用于高級封裝制造領域，這類光刻機無需光掩模或高端模板，即可直接在材料上投射光線進行電路設計與蝕刻。高級封裝將多種芯片與技術集成于單一封裝內，使數據中心和 5G 等高性能計算應用實現更小巧、更快速、能效更高的系統設計。
借助 TI DLP? 技術，系統組裝設備制造商可利用無掩模數字光刻實現高級封裝所需的大規模高分辨率印刷。新款 DLP991UUV 作為可編程光掩模，提供精確的像素控制與可靠的高速性能。
TI DLP 技術副總裁兼總經理 Jeff Marsh 表示：“通過推動膠片到數字投影的轉型，我們曾重新定義了電影放映行業。如今，TI DLP? 技術再次站在重大產業變革的前沿，推動無掩模數字光刻系統的建設，使全球工程師能夠突破當前高級封裝的限制，為市場帶來強大的計算解決方案。”
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