Axcelis Technologies 近日推出了一款全新的高束流離子注入設備，精準面向下一代半導體制造需求。公司表示，其 Purion H6 系統旨在為先進制程節點提供更高純度、更精密的工藝控制以及更強的生產效率。

對于關注半導體設備創新的《eeNews Europe》讀者而言，此次發布意義重大：離子注入仍是邏輯芯片、存儲器、圖像傳感器及成熟制程中不可或缺的關鍵工藝步驟。在劑量控制精度、污染抑制和產能方面的改進，將直接影響晶圓廠的良率、擁有成本（Cost of Ownership）和整體運營效率——這也是IDM廠商與代工廠共同關注的核心議題。

基于成熟的 Purion H 平臺升級

Purion H6 于2026年2月4日正式發布，是在 Axcelis 已廣受市場認可的 Purion H 系列平臺基礎上開發而成，新增多項技術以支持先進半導體器件制造。該系統融合了高產能離子束線，并在離子源壽命、顆粒控制和劑量計量等方面進行了優化，兼顧性能表現與運營效率。

據 Axcelis 介紹，Purion H6 被設計為單一平臺即可覆蓋廣泛的高束流注入應用，包括先進邏輯與存儲芯片、圖像傳感器，以及對成本控制和設備稼動率（uptime）要求極高的成熟制程領域。公司強調，此次重新設計帶來了更簡便的操作性、更高的系統可靠性以及更低的擁有成本。

公司總裁兼首席執行官 Russell Low 博士 表示：

“我們非常高興推出新一代高束流離子注入機 Purion H6，它專為應對客戶在先進半導體器件制造中最嚴峻的挑戰而打造。Axcelis 始終聚焦于創新的注入解決方案，以提供推動邏輯、先進存儲、圖像傳感器及成熟技術市場實現關鍵器件突破所必需的工藝性能與擁有成本優勢。”

聚焦劑量控制與生產效率

Axcelis 將 Purion H6 的核心優勢聚焦于幾項關鍵技術：

• 新一代劑量控制系統：提升工藝重復性與晶圓安全性，同時降低運營成本；

• 通過束線優化實現的增強型顆粒控制：有效減少污染、提高良率，并降低預防性維護頻率。

此外，該系統還集成了 Axcelis 自主研發的 Eterna ELS7 離子源技術。公司稱，該技術可提升離子束的穩定性與重復性，延長離子源壽命，并簡化維護流程。在產能方面，Axcelis 聲稱 Purion H6 具備同類產品中最高的束流強度，可實現業界領先的吞吐量，樹立了高束流注入設備的新標桿。

執行副總裁 Greg Redinbo 博士 補充道：

“該平臺是在與客戶緊密協作下開發的，樹立了離子注入在純度、精度和生產效率方面的新基準。新系統引入了創新的劑量控制技術和增強型束線優化方案，在實現卓越注入工藝控制的同時，提供了業界領先的生產效率和資本利用效率。”

市場展示與下一步計劃

Axcelis 計劃在 2026年2月11日至13日于首爾 COEX 會展中心舉行的 SEMICON Korea 展會上首次公開展示 Purion H6 系統，展位號為 D522。更多詳細信息（包括產品視頻）已在其官網發布。