Mentor Graphics公司(NASDAQ:MENT)于2014年5月15日宣布,在北京理工大學光電學院新建一所光電聯合實驗室。作為雙方協議的一部分，明導將資助課程開發、研究生學位課程專業研討會和相關研究，并使北京理工大學光電學院畢業的學生能深入了解前沿光電技術，如光學鄰近校正(OPC)和分辨率增強技術(RET)。

　　“我們很高興能在分辨率提升技術的教學和研究方面與明導取得合作，”光電學院聯合實驗室負責人李艷秋教授說，“隨著中國IC產業持續快速發展，新的畢業生應當掌握一些方法和工具，來應對納米集成電路設計和制造中出現的挑戰。我們的聯合實驗室創建了一個成像及分辨率增強技術物理驗證和協同設計平臺，開展深亞微米至納米技術節點集成電路設計和制造相關的 OPC和SMO等RET技術、光刻設備、IC掩模和工藝協同設計與優化技術，支撐教學、研究、學科建設、承擔企業及國家項目。作為我們的合作伙伴，明導將提供先進設計軟件與技術支持，豐富的實踐教學機會和資源等等。”

　　北京理工大學光電學院在光電技術教育和研究方面頗負盛名，曾參與多項國家研究項目。該學院現有138名教職工，38名教授，1700多名學生。聯合實驗室預計會取得前沿的研究成果，并突破先進技術的挑戰。聯合實驗室還將同時在學術和工業領域教育和培養學生，并促進集成電路領域的國際交流。

　　“光學和電子學領域在新一代芯片中融合，光子和電子的結合催生出美妙的新應用。此外，復雜的光學軟件允許我們把芯片尺寸做的越來越小，這對半導體行業未來的發展，絕對是至關重要的。”明導亞太區副總裁彭啟煌說，“我們的合作將有助于確保光電學院的學生做好準備，以應對將來IC設計和制造領域的挑戰。”