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臺積電重新利用舊晶圓廠，將 EUV 薄膜生產(chǎn)引入內(nèi)部
- 臺積電正在重新利用其位于新竹科學(xué)園的舊的、已折舊的 8 英寸 Fab 3 來生產(chǎn)極紫外薄膜，并將這種生產(chǎn)引入內(nèi)部。EUV 薄膜是一種薄而高度透明的薄膜，拉伸在光掩模上方，以防止顆粒在 EUV 暴露期間接觸掩模。它旨在承受強(qiáng)烈的 EUV 輻射和熱應(yīng)力，同時最大限度地減少光吸收和波前失真。生產(chǎn)薄膜是一種縮短更換周期的方法，并對組件施加更多控制，在 EUV 環(huán)境中，該組件必須保護(hù)光掩模免受顆粒影響，同時應(yīng)對極端暴露條件。與舊的 DUV 工藝不同，EUV 系統(tǒng)使用 400 W 光源和局部加熱運(yùn)行，掩模溫度接近 1
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