- 臺積電正在重新利用其位于新竹科學園的舊的、已折舊的 8 英寸 Fab 3 來生產極紫外薄膜,并將這種生產引入內部。EUV 薄膜是一種薄而高度透明的薄膜,拉伸在光掩模上方,以防止顆粒在 EUV 暴露期間接觸掩模。它旨在承受強烈的 EUV 輻射和熱應力,同時最大限度地減少光吸收和波前失真。生產薄膜是一種縮短更換周期的方法,并對組件施加更多控制,在 EUV 環境中,該組件必須保護光掩模免受顆粒影響,同時應對極端暴露條件。與舊的 DUV 工藝不同,EUV 系統使用 400 W 光源和局部加熱運行,掩模溫度接近 1
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臺積電 舊晶圓廠 EUV 薄膜生產
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