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pellicle 文章 最新資訊

臺積電加速自研EUV光罩保護膜,單片晶圓生產效率提升了4.5倍

  • 據Tom's hardware報道,臺積電(TSMC)作為全球最大的先進制程晶圓代工廠,不僅擁有著全球最先進的制程工藝,也擁有著數量最多的ASML極紫外光(EUV)光刻機。2019年首次于華為麒麟9000處理器導入EUV后,臺積電持續控制著全球超過42%~56%的EUV光刻機裝機量,經過多年的積累,臺積電目前已經累積了約200多臺EUV光刻機,在2024~2025年還新增了60多臺,以支撐先進制程擴產需要。自2019年以來,臺積電通過自身的系統級優化及自研EUV光罩保護膜(Pellicle,保護光
  • 關鍵字: 臺積電  EUV  晶圓  Pellicle  光罩保護膜  
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