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euv 文章 最新資訊

臺積電要出售?張忠謀:不慌,價好就賣

  • 在前段時間,臺積電創始人張忠謀在即將退休的時候卻意外表示,其實中國臺灣地區的企業本來就不應該死守,假如價錢夠好把臺積電賣掉也無妨。
  • 關鍵字: 臺積電  EUV  

日媒:三星最高利潤背后的危機感

  •   韓國三星電子2017財年(截至2017年12月)合并營業利潤創下歷史新高,但其危機感正在加劇。三星1月31日發布的財報顯示,營業利潤同比增長83%,其中僅半導體業務盈利就增至上年的2.6倍,約合3.5萬億日元,顯著依賴市場行情,因此危機感增強。3大主要部門面臨著半導體增長放緩等課題。三星能否在新經營團隊的領導下,將智能手機和電視機的自主技術培育成新的收益源? 2018財年將成為試金石。   三星整體的營業利潤為53.65萬億韓元,時隔4年再創歷史新高。其中,半導體部門的服務器和智能手機存儲銷量堅挺,
  • 關鍵字: 三星  EUV  

EUV微影前進7nm制程,5nm仍存在挑戰

  •   EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節點。 不過,根據日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發布的分析顯示,實現5nm芯片所需的光阻劑仍存在挑戰。   極紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節點。 不過,根據日前在美國加州舉辦的年度產業策略研討會(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所發布的分析顯示,實現5nm芯片所需的光阻劑(photoresist)仍存在挑戰。
  • 關鍵字: EUV  7nm  

4nm大戰,三星搶先導入將EUV,研發GAAFET

  •   晶圓代工之戰,7nm制程預料由臺積電勝出,4nm之戰仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱,三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備,又投入研發能取代「鰭式場效晶體管」(FinFET)的新技術,目前看來似乎較占上風。   Android Authority報導,制程不斷微縮,傳統微影技術來到極限,無法解決更精密的曝光顯像需求,必須改用波長更短的EUV, 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程,EUV是必備工具。 三星明年生產7nm時,就會率先采用EUV,這有如讓三星在6nm以下的競
  • 關鍵字: 4nm  EUV  

?沒有EUV 半導體強國之夢就「難產」?

  • 一時之間,仿佛EUV成為了衡量中國半導體設備產業發展水平的標桿,沒有EUV就無法實現半導體強國之夢?
  • 關鍵字: EUV  5nm  

EUV或將決定半導體產業方向,通快加緊布局

  •   近日,TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著迷的激光創新時重點提及極紫外光刻,也就是我們常說的EUV。他認為,EUV令人著迷的原因是其極富挑戰性及對世界的重要影響。   Peter Leibinger   “如果我們無法實現EUV突破,摩爾定律將失效” Peter Leibinger表示:“其影響范圍不僅僅是芯片行業,智能手機產業乃至整個電子裝備產業都將改變運作方式。”   什么是EUV?   極紫外光刻(Ex
  • 關鍵字: TRUMPF  EUV  

EUV面臨的問題和權衡

  •   新的光刻工具將在5nm需要,但薄膜,阻抗和正常運行時間仍然存在問題。   Momentum正在應用于極紫外(EUV)光刻技術,但這個談及很久的技術可以用于批量生產之前,仍然有一些主要的挑戰要解決。   EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段。   如今,GlobalFoundries,英特爾,三星和臺積電相互競爭,將EUV光刻插入到7nm和/或5nm的大容量
  • 關鍵字: EUV  

Brewer Science 為領先制造廠商提供關鍵性的半導體材料

  •   Brewer Science, Inc. 很榮幸宣布參加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司將與業界同仁交流臺灣半導體制造趨勢的見解,內容涵蓋前端和后端的材料,以及次世代制造的流程步驟。  今日的消費性電子產品、網絡、高效能運算 (HPC) 和汽車應用皆依賴封裝為小型尺寸的半導體裝置,其提供更多效能與功能,同時產熱更少且操作時更省電。透過摩爾定律推動前端流程開發,領先的代工和整合組件制造商(IDM
  • 關鍵字: 晶圓  EUV   

張忠謀:臺積電南京廠明年下半量產

  •   臺積電(2330)南京廠今日上午正式舉行進機典禮,由董事長張忠謀親自主持,大陸中央及地方貴賓云集,顯示對臺積電南京投資案重視。   海思及聯發科將是首批客戶   張忠謀表示,大陸集成電路在中國制造,臺積電可助一臂之力。 南京廠預計2018年下半年量產,陸媒預估中國海思及聯發科(2454)將是首批客戶。   工程師已陸續由臺灣進駐   今年上半年臺積電工程師已經陸續由臺灣進駐南京廠協助建廠事宜,8月16奈米大型機臺陸續透過華航包機,由臺灣運往南京祿口機場,而南京市政府為了迎接重量級貴賓,加快浦口
  • 關鍵字: 臺積電  EUV  

臺積30周年:半導體八巨頭將同臺,庫克沒來

  •   晶圓代工龍頭臺積電將在今年10月23日盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇,以及于國家音樂廳舉辦音樂會。 臺積電30周年慶活動將由當天下午舉行的半導體論壇揭開序幕,由董事長張忠謀親自主持,將邀請包括高通、博通、輝達(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、蘋果等重量級客戶及合作伙伴, 與張忠謀一起暢談半導體產業未來10年展望。   臺積電今年歡度30周年,活動當天將盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇,由董事長張忠謀親自主持,與談人包括了NVIDIA執行長黃仁勛、高通執行長Steve Mollenko
  • 關鍵字: 臺積電  EUV  

7nm大戰在即 買不到EUV光刻機的大陸廠商怎么辦?

  • 對于7nm制程工藝,三星和臺積電兩大晶圓代工領域巨頭都早已入手布局以便爭搶IC設計業者們的訂單。
  • 關鍵字: 7nm  EUV  

KLA-Tencor宣布推出針對光學和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM產品線

  •   今天,KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*檢測產品線。自從1978年公司推出第一臺檢測系統以來,KLA-Tencor一直是圖案光罩檢測的主要供應商,新的FlashScan產品線宣告公司進入專用空白光罩的檢驗市場。光罩坯件制造商需要針對空白光罩的檢測系統,用于工藝開發和批量生產過程中的缺陷檢測,此外,光罩制造商(“光罩廠”)為了進行光罩原料檢測,設備監控和進程控制也需要購買該檢測系統。 FlashScan系統可以檢查針對光學或極紫外(EUV)光刻的空白光罩。 
  • 關鍵字: KLA-Tencor  EUV   

首先采用EUV光刻工藝 三星半導體代工優劣勢分析

  •   張忠謀曾比喻說:“三星是一只700磅的大猩猩”,表示它十分強悍。然而在現階段的代工業中三星尚是“新進者”,需要時間的積累。   01、引言   據IC Insight公布的今年Q2數據,三星半導體依158億美元,同比增長46.5%,超過英特爾而居首。   全球半導體三足鼎立,英特爾、臺積電、三星各霸一方,近期內此種態勢恐怕難以有大的改變,但是一定會此消彼長,無論哪家在各自領域內都面臨成長的煩惱。   然而在三家之中三星謀求改變的勢頭最猛,而臺積電
  • 關鍵字: 三星  EUV  

EUV需求看俏 ASML頻傳捷報

  •   全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示,由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準備將EUV導入芯片量產階段,EUV光刻機目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。   ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元,毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單,讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺,總值高達28億歐元。   ASML預估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元,毛
  • 關鍵字: ASML  EUV  

EUV在手天下我有 ASML二季度表現亮眼

  •   全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元,毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單,讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺,總值高達28億歐元。   預估2017第三季營收凈額約為22億歐元,毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務表現,ASML預估2017全年營收成長可達25%。   ASML總裁暨執行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻來自內存芯片客戶,尤其在DRAM市場需求的驅動下,這部分的
  • 關鍵字: EUV  ASML  
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euv介紹

在半導體行業,EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。 極紫外光刻(英語:Extreme ultra-violet,也稱EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長的光刻技術。 EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。 根據瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高 [ 查看詳細 ]

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