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國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備加速崛起
- 據(jù)《日經(jīng)亞洲》報(bào)道，日本研究機(jī)構(gòu)Global Net數(shù)據(jù)顯示，2025年全球芯片設(shè)備廠(chǎng)商前20強(qiáng)中有3家中國(guó)企業(yè)，較2022年美國(guó)出口限制前新增2家。這三家公司分別是北方華創(chuàng)、中微公司和上海微電子。值得注意的是，若將范圍擴(kuò)大至排名前30名的企業(yè)，還將新增兩家中國(guó)企業(yè)：盛美上海和華海清科。北方華創(chuàng)、中微、上海微、盛美上海、華海清科上榜TOP30這一變化既展現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)設(shè)備凸顯群體崛起態(tài)勢(shì)，也印證了美國(guó)出口管制未達(dá)遏制目的，反而倒逼中國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈自主化加速，激發(fā)了本土產(chǎn)業(yè)韌性。北方華創(chuàng)具體排名中，北方華創(chuàng)的排名
- 關(guān)鍵字： 半導(dǎo)體設(shè)備 ASML 北方華創(chuàng) 中微公司 上海微電子 DUV EUV
ASML報(bào)告2025年銷(xiāo)售額為327億歐元
- ASML Holding NV 交出 2025 年創(chuàng)紀(jì)錄財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)，印證了先進(jìn)光刻設(shè)備需求的持續(xù)旺盛，以及市場(chǎng)對(duì)人工智能驅(qū)動(dòng)的半導(dǎo)體領(lǐng)域投資信心的不斷提升。這家荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭公布，2025 年全年凈營(yíng)收達(dá) 327 億歐元，凈利潤(rùn)為 96 億歐元。對(duì)于讀者而言，這份業(yè)績(jī)數(shù)據(jù)具有重要參考意義 —— 不僅因?yàn)?ASML 處于全球芯片制造生態(tài)的核心位置，更因其發(fā)展前景往往是歐洲及全球各地半導(dǎo)體行業(yè)資本支出、極紫外光刻（EUV）技術(shù)普及進(jìn)度與技術(shù)路線(xiàn)圖的領(lǐng)先指標(biāo)。極紫外光刻業(yè)務(wù)增長(zhǎng)，推動(dòng)全年業(yè)績(jī)創(chuàng)紀(jì)錄ASML20
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻 芯片制造 半導(dǎo)體
ASML計(jì)劃裁員4%，簡(jiǎn)化技術(shù)部門(mén)內(nèi)的決策流程
- 全球最大的先進(jìn)芯片荷蘭制造商ASML在公布其銷(xiāo)售額連續(xù)第十三年實(shí)現(xiàn)增長(zhǎng)后，CEO克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在聲明中表示，計(jì)劃裁減約1700個(gè)工作崗位，作為其技術(shù)和IT運(yùn)營(yíng)重組的一部分。此次裁員人員主要涉及管理層，人數(shù)約占員工總數(shù)的4%，大部分裁員將在荷蘭進(jìn)行，美國(guó)也有部分職位被裁減。ASML表示，一些領(lǐng)導(dǎo)職位可能不再需要，同時(shí)將創(chuàng)建新的工程職位以支持正在進(jìn)行和未來(lái)的項(xiàng)目?！半m然這將使一些受影響的同事能夠轉(zhuǎn)移到新的崗位，但我們必須承認(rèn)，有些人將因此離開(kāi)阿斯麥公司”。此舉旨在加強(qiáng)
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ASML發(fā)布2025年全年財(cái)報(bào)
- 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第四季度及全年財(cái)報(bào)。2025年第四季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷(xiāo)售額97億歐元，毛利率為52.2%，凈利潤(rùn)達(dá)28億歐元；第四季度的新增訂單金額為132億歐元，其中74億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML 2025年全年凈銷(xiāo)售額達(dá)327億歐元，毛利率為52.8%，凈利潤(rùn)為96億歐元。截至2025年底，ASML的未交付訂單金額為388億歐元。ASML預(yù)計(jì)2026年第一季度凈銷(xiāo)售額在82億至89億歐元之間，毛利率介于51%至53%；2026年全年凈銷(xiāo)售額預(yù)計(jì)在340億至390億歐元之間
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ASML憑借臺(tái)積電樂(lè)觀展望市值超5000億美元
- ASML成為第三家市值突破5000億美元的歐洲公司，主要客戶(hù)TSMC給出了超出預(yù)期的2026年展望。這家荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商周四在阿姆斯特丹股價(jià)上漲了最高7.6%，創(chuàng)下歷史新高，并將年初至今漲幅擴(kuò)大到24%。這使得ASML的市值達(dá)到約4530億歐元（5270億美元）。此前只有奢侈品集團(tuán)LVMH和丹麥制藥公司諾和諾德A/S達(dá)到過(guò)這一里程碑。ASML在臺(tái)積電周四預(yù)測(cè)2026年資本支出將達(dá)到高達(dá)560億美元，超出預(yù)期后，ASML突破象征性水平，顯示出這家芯片制造商正從人工智能熱潮中獲益。巴克萊集團(tuán)策略師Emma
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中國(guó)EUV技術(shù)實(shí)現(xiàn)突破，半導(dǎo)體競(jìng)賽格局生變
- 隨著計(jì)算技術(shù)的進(jìn)步，越來(lái)越多的先進(jìn)芯片應(yīng)運(yùn)而生。最新一代 3 納米和 2 納米制程芯片的尺寸極小，傳統(tǒng)光源波長(zhǎng)已無(wú)法在如此精細(xì)的尺度上實(shí)現(xiàn)可靠的圖形光刻。這一挑戰(zhàn)并非新題 —— 半導(dǎo)體行業(yè)長(zhǎng)期以來(lái)一直使用深紫外光刻（DUV）技術(shù)在硅片上進(jìn)行光刻加工。但要實(shí)現(xiàn)最先進(jìn)芯片設(shè)計(jì)的納米級(jí)精度，就需要波長(zhǎng)更短的光源。這種光源及對(duì)應(yīng)的光刻技術(shù)被稱(chēng)為極紫外光刻（EUV）。中國(guó) EUV 原型機(jī)提前問(wèn)世圖注：更短、更精準(zhǔn)、更纖薄：技術(shù)的巨大飛躍，蔡司（ZEISS）數(shù)據(jù)顯示，EUV 技術(shù)制造的結(jié)構(gòu)精度達(dá) 13.5 納米，比人
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ASML極紫外驗(yàn)證主導(dǎo)地位與中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備推動(dòng)
- 在美國(guó)的限制下，中國(guó)推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備自給自足，紫外真空是相較于ASML光刻技術(shù)的關(guān)鍵瓶頸。ASML的極紫外光刻（EUV）技術(shù)被廣泛認(rèn)為是現(xiàn)代工業(yè)的皇冠明珠。中國(guó)試圖通過(guò)投入資源實(shí)現(xiàn)類(lèi)似“曼哈頓計(jì)劃”的努力，但真正的障礙不僅僅在于設(shè)備復(fù)制，更在于全球供應(yīng)鏈以及ASML三十多年來(lái)構(gòu)建的高量制造（HVM）數(shù)據(jù)反饋循環(huán)。為什么中國(guó)的逆向工程在面對(duì)EUV時(shí)失敗？答案可能在于曝光波長(zhǎng)的演變。在半導(dǎo)體制造中，光刻機(jī)作為光刻工藝的核心設(shè)備。它通過(guò)圖案化的光掩膜和光刻膠將預(yù)設(shè)計(jì)的電路圖案光學(xué)轉(zhuǎn)移到晶圓表面，其精度和通量直接決
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據(jù)報(bào)道，中國(guó)利用較舊的ASML組件制造EUV原型機(jī)，Eyes 2028芯片制造
- 中國(guó)朝向國(guó)產(chǎn)紫外真空光刻能力的漫長(zhǎng)進(jìn)程似乎正在縮小，近期發(fā)展顯示進(jìn)展速度超乎預(yù)期。據(jù)路透社報(bào)道，消息人士稱(chēng)中國(guó)已組裝了一臺(tái)使用舊ASML系統(tǒng)組件的EUV原型機(jī)。正如報(bào)道所示，消息人士稱(chēng)中國(guó)政府目標(biāo)是在2028年前生產(chǎn)使用該原型機(jī)的實(shí)用芯片，盡管2030年被視為更現(xiàn)實(shí)的目標(biāo)。原型機(jī)的存在表明，中國(guó)距離半導(dǎo)體自給自足可能比此前預(yù)期的更近數(shù)年。報(bào)道援引消息人士稱(chēng)，原型機(jī)于2025年初完成，目前正在進(jìn)行測(cè)試。報(bào)告補(bǔ)充說(shuō)，雖然該機(jī)器已運(yùn)行并具備極紫外光的能力，但尚未生產(chǎn)出可工作的芯片。據(jù)報(bào)道，前ASML工程師參與了
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ASML：High NA EUV 光刻機(jī)，2027~2028年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)
- 2007 年，克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）應(yīng)聘 ASML 時(shí)，提出了一個(gè)不同尋常的要求：能否接受比這家荷蘭公司提供的職位低一級(jí)的職位？他想深入了解 ASML 向英特爾和三星電子等科技巨頭出售的新型芯片制造設(shè)備的技術(shù)細(xì)節(jié)。第二年入職后，他花了數(shù)周時(shí)間仔細(xì)研讀產(chǎn)品目錄，直到能夠背誦出所有關(guān)鍵特性。「即使是今天，當(dāng)我與客戶(hù)會(huì)面時(shí)，我們也會(huì)討論非常具體的事情，」這位 52 歲的首席執(zhí)行官說(shuō)道，他于 2024 年接任 ASML 首席執(zhí)行官一職?！改阈枰私馑麄兊臉I(yè)務(wù)。你需要能夠解釋你正在
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ASML CEO警告：過(guò)度封鎖或加速中國(guó)技術(shù)自主
- 全球光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）首席執(zhí)行官克里克里斯托夫·富凱（Christophe Fouquet）在專(zhuān)訪(fǎng)時(shí)，談到了被禁止向中國(guó)出口所有EUV設(shè)備及最先進(jìn)的深紫外（DUV）光刻設(shè)備，就當(dāng)前西方對(duì)華光刻機(jī)出口限制政策，拋出了一番充滿(mǎn)矛盾的“技術(shù)制衡論”，引發(fā)行業(yè)廣泛關(guān)注。眼下，阿斯麥正面臨嚴(yán)苛的出口管制約束：被禁止向中國(guó)出口所有極紫外（EUV）光刻設(shè)備，以及技術(shù)最先進(jìn)的深紫外（DUV）光刻設(shè)備。他重申其觀點(diǎn)，認(rèn)為“應(yīng)向中國(guó)適度輸出技術(shù)以防其自主研發(fā)形成競(jìng)爭(zhēng)力”；同時(shí)，在他看來(lái)在對(duì)華技術(shù)出口限制問(wèn)題上，西方
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ASML亮相第八屆進(jìn)博會(huì)，展示其全球AI洞察與面向主流芯片市場(chǎng)的全景光刻解決方案
- 半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML（阿斯麥）將于11月5日至10日參加第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“進(jìn)博會(huì)”）。在本屆進(jìn)博會(huì)上，ASML將以“積納米之微，成大千世界”為主題，亮相技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館集成電路專(zhuān)區(qū)A1-03展臺(tái)。ASML在2025年進(jìn)博會(huì)的展臺(tái)在今年進(jìn)博會(huì)上，ASML將通過(guò)短片形式分享其對(duì)AI（人工智能）時(shí)代下半導(dǎo)體行業(yè)所面臨機(jī)遇和挑戰(zhàn)的全球洞察：AI正在深刻影響社會(huì)與生活的方方面面，驅(qū)動(dòng)全球?qū)Σ煌瞥坦?jié)點(diǎn)芯片需求的激增。這一趨勢(shì)加速了創(chuàng)新步伐，也帶來(lái)算力和能源方面的挑戰(zhàn)。推動(dòng)摩爾定律持
- 關(guān)鍵字： ASML 進(jìn)博會(huì) 光刻
新初創(chuàng)公司Substrate希望與ASML競(jìng)爭(zhēng)
- 年3月，詹姆斯·普勞德（James Proud）是一位不起眼的英國(guó)出生的美國(guó)人，沒(méi)有大學(xué)學(xué)位，他坐在副總裁JD Vance的辦公室里，解釋了他在硅谷的初創(chuàng)公司Substrate如何開(kāi)發(fā)出一種替代的半導(dǎo)體制造工藝，這是技術(shù)領(lǐng)域最基本和最困難的挑戰(zhàn)之一。在過(guò)去的十年中，半導(dǎo)體一直是由校車(chē)大小的機(jī)器制造的，該機(jī)器利用光在無(wú)菌內(nèi)的硅片上蝕刻圖案， 250億美元的工廠(chǎng)。這臺(tái)來(lái)自荷蘭公司 ASML 的機(jī)器對(duì)智能手機(jī)、人工智能系統(tǒng)和武器中的芯片至關(guān)重要，以至于華盛頓有效地阻止了它向中國(guó)的銷(xiāo)售。但普勞德表示，他的公司已從
- 關(guān)鍵字： Substrate ASML
4億美元太貴！臺(tái)積電仍拒絕購(gòu)買(mǎi)ASML的High-NA EUV設(shè)備
- 目前，生產(chǎn)尖端半導(dǎo)體必不可少的EUV（極紫外）光刻設(shè)備由荷蘭ASML獨(dú)家供應(yīng)，而臺(tái)積電2nm工藝就是利用現(xiàn)有的EUV設(shè)備實(shí)現(xiàn)晶圓的大規(guī)模量產(chǎn)，并保持較高的良率。但隨著推進(jìn)到更先進(jìn)的次2nm節(jié)點(diǎn) —— 即1.4nm與1nm（分別代號(hào)A14與A10）—— 制造工藝將面臨更多技術(shù)瓶頸。理論上，這些問(wèn)題可以通過(guò)采購(gòu)ASML的最先進(jìn)High-NA EUV設(shè)備來(lái)解決，但最新消息稱(chēng)臺(tái)積電選擇的方向并非購(gòu)買(mǎi)新設(shè)備，而是轉(zhuǎn)向使用光掩模薄膜（Photomask Pellicles）。什么是High-NA光刻機(jī)？從早期的深紫外
- 關(guān)鍵字： 臺(tái)積電 ASML High-NA EUV 2nm
ASML警告中國(guó)銷(xiāo)量下降或加劇26年增長(zhǎng)擔(dān)憂(yōu)
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭、芯片制造光刻機(jī)的主要供應(yīng)商 ASML Holding NV 于 2025 年 10 月 15 日發(fā)布了 2025 年第三季度財(cái)報(bào)。結(jié)果顯示，在人工智能需求的推動(dòng)下，訂單量強(qiáng)勁，但也對(duì) 2026 年對(duì)中國(guó)的銷(xiāo)售額將大幅下降發(fā)出了嚴(yán)厲警告。雖然該公司試圖向投資者保證整體增長(zhǎng)將保持穩(wěn)定，但這一消息凸顯了芯片行業(yè)不斷升級(jí)的地緣政治緊張局勢(shì)。以下是主要亮點(diǎn)的細(xì)分。財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)ASML 公布了穩(wěn)健的第三季度業(yè)績(jī)，盡管凈利潤(rùn)持平，但預(yù)訂量超出預(yù)期：凈銷(xiāo)售額：77 億歐元，同比增長(zhǎng) 8%，但略低于分析師預(yù)
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 芯片工具
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