據《日經亞洲》報道，日本研究機構Global Net數據顯示，2025年全球芯片設備廠商前20強中有3家中國企業，較2022年美國出口限制前新增2家。這三家公司分別是北方華創、中微公司和上海微電子。值得注意的是，若將范圍擴大至排名前30名的企業，還將新增兩家中國企業：盛美上海和華海清科。

北方華創、中微、上海微、盛美上海、華海清科上榜TOP30

這一變化既展現了國產設備凸顯群體崛起態勢，也印證了美國出口管制未達遏制目的，反而倒逼中國半導體供應鏈自主化加速，激發了本土產業韌性。

北方華創

具體排名中，北方華創的排名從2022年的第八位上升至2025年的第五位，位列ASML、Applied Materials、Lam Research和TEL之后。北方華創成立于2001年，業務覆蓋刻蝕、薄膜沉積等各類半導體裝備，是國內唯一能覆蓋前道80%工藝環節的平臺型設備商。北方華創2025年第三季度報告顯示，公司前三季度實現營收273.01億元，同比增長32.97%；歸母凈利潤為51.30億元，同比增長14.83%。其中，第三季度實現營入111.60億元，同比增長38.31%；歸母凈利潤為19.22億元，同比增長14.6%。針對該業績變化，北方華創稱主要原因是國內集成電路裝備市場持續增長，公司憑借高效的產品研發能力和快速的客戶響應速度，工藝覆蓋度和市場占有率穩步提升，公司市場份額持續擴大，營業收入同比增加。 

中微公司

與2022年相比，新進榜單、排名第13的是中微公司，由一位曾在Lam公司和應用材料公司工作的工程師創立。

預計2025年度實現歸屬于母公司所有者的凈利潤為20.80億元至21.80億元，與上年同期（法定披露數據）相比，將增加4.64億元至5.64億元，同比增長約28.74%至34.93%。預計2025年度實現歸屬于母公司所有者的扣除非經常性損益的凈 利潤為15.00億元至16.00億元，與上年同期（法定披露數據）相比，將增加1.12億元至2.12億元，同比增加約8.06%至15.26%。

中微公司針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝和先進存儲器件的超高深寬比刻蝕工藝實現了穩定可靠的大規模量產。核心刻蝕設備可用于5nm芯片生產，已進入臺積電等頂尖廠商產線驗證。在泛半導體設備領域，中微正在開發更多化合物半導體外延設備，已陸續付運至客戶端進行驗證。

上海微電子

上海微電子居第20位，主要生產光刻設備，是將電路圖形轉移到晶圓上的設備，也是決定芯片性能的關鍵環節。盡管上海微電子產品落后于全球光刻設備龍頭ASML，但作為中國為數不多的幾家光刻設備制造商之一，它仍然擁有一定的市場需求。

國產化進程持續提速

中國正通過國家基金牽頭、地方政府配套投入的方式，加大力度推進半導體產業自主化，在設備和材料領域持續加碼投資，促使設備廠商數量快速增加，新進入者不斷涌現。而美國的出口限制進一步加速了這一趨勢，倒逼中國加快實現芯片和制造設備的國產化。

目前中國半導體設備本土制造率達20%-35%，較三年前翻倍，部分核心環節采用率突破40%。先進半導體的生產涉及1000多個工序，每個工序都需要相應的設備，而國內企業已能全面覆蓋半導體制造所有工藝環節，打破核心設備進口依賴。中國企業正攻關DUV光刻技術，探索Chiplet等繞開限制的路徑，未來將持續加大研發，推動全球市場競爭多元化。

一家專門向中國制造商供應零部件的貿易公司的負責人表示，中國企業“現在能夠涵蓋所有工序，包括沉積、蝕刻和清洗”。從長遠來看，隨著中國供應鏈的不斷深化，西方和日本公司所保持的技術領先地位可能并不穩固。

據SEMI數據，2024年中國芯片制造設備銷售額達495億美元，成為全球最大市場，為本土企業提供了廣闊空間。全球格局上，美日荷企業仍主導高端市場，阿斯麥壟斷先進EUV光刻技術。但受出口限制影響，阿斯麥預計2026年對華銷售額占比將從2025年的33%降至20%。