美國再次放寬對華高技術產品出口 65nm以下刻蝕設備不再受限
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在SEMI及會員公司的共同努力下，經過9個月的等待，美國聯邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nma。
本文引用地址：http://cqxgywz.com/article/113313.htm
在SEMI及會員公司的共同努力下，經過9個月的等待，美國聯邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件，原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nma。
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