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asml 文章 最新資訊

ASML最先進的光刻機，花落誰家？

  • 4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預計將于2026年左右發(fā)布。近日，據(jù)外媒消息，ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV（High-NA EUV）設備訂單由英特爾全部包攬，據(jù)悉，英特爾在宣布重新進入芯片代工業(yè)務時搶先
  • 關鍵字： ASML  半導體設備  EUV光刻機  

英特爾宣布世界首臺商用 High NA EUV 光刻機完成組裝，計劃明年投入研發(fā)使用

  • IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發(fā)晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機的組裝工作，目前已進入光學系統(tǒng)校準階段。▲ 圖源英特爾新聞稿這臺光刻機型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機，價值約 3.5 億美元（IT之家備注：當前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機成功
  • 關鍵字： 英特爾  ASML  光刻機  

阿斯麥向客戶交付第二臺 High NA EUV 光刻機，買家身份成謎

  • IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數(shù)值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。這臺高端光刻機旨在制造比當前低 NA EUV 設備所能制造的更高密度的芯片。據(jù)路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經(jīng)購買了首臺高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節(jié)點。正如 A
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

美國：不準向中國廠商提供光刻機維修服務！ASML回應

  • 4月18日消息，ASML公開表示，將繼續(xù)為中國大陸廠商提供設備維修服務。此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設備的維修服務。在業(yè)績電話會上，ASML首席執(zhí)行官溫寧克回應稱，“目前沒有什么可以阻止我們?yōu)樵谥袊箨懓惭b的設備提供服務。”光刻機是制造芯片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產(chǎn)生重大影響，特別是對于維護產(chǎn)線穩(wěn)定運行所必需的光刻機核心部件的供應和維護。之前外界擔心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML發(fā)布2024年第一季度財報

  • 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第一季度財報。2024年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額53億歐元，毛利率為51.0%，凈利潤達12億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為36億歐元2，其中6.56億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第二季度的凈銷售額在57億至62億歐元之間，毛利率介于50%到51%，預計2024年的凈銷售額將與2023年基本持平。1.累計裝機管理銷售額等于凈服務和升級方案?(field option)?銷售額的總和。2.訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調整
  • 關鍵字： ASML  2024年第一季度財報  

老美失算了！想引領芯片技術卻讓ASML獨大

  • 美國為了擺脫對他國的芯片依賴，力促芯片制造業(yè)回流本土，美媒撰文分析，美國曾有機會引領芯片制造技術卻錯過了機會，不只讓ASML獨大，也讓亞洲制造商臺積電、三星等主導了生產(chǎn)。根據(jù)MarketWatch報導，ASML在半導體產(chǎn)業(yè)占有關鍵地位，是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設備極紫外光（EUV）曝光機的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出，臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈，身為設備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。至于美國為何會失去對EUV技術這
  • 關鍵字： 芯片  ASML  

3大巨頭AI競賽背后的大贏家：芯片戰(zhàn)爭中的軍火商

  • 全球AI浪潮來襲，3大巨頭臺積電、英特爾與三星競爭日益激烈，根據(jù)MarketWatch報導，避險基金經(jīng)理人指出，荷蘭半導體設備大廠ASML就像這場芯片戰(zhàn)爭中的軍火商，成為最大受惠者之一。報導指出，Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula在于倫敦舉辦的一場投資大會(Sohn Investment Conferenc)上表示，臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈，身為設備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。Vijay Shilpiekandula認為，數(shù)年來A
  • 關鍵字： AI  芯片戰(zhàn)爭  ASML  

半導體光刻機巨頭，何去何從？

  • 3月27日消息，據(jù)外媒報道，為留住光刻機設備巨頭阿斯麥（ASML）繼續(xù)在荷蘭發(fā)展，荷蘭政府計劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初，荷蘭當?shù)貓蠹圖e Telegraaf揭露，ASML計劃將公司搬離荷蘭。報道指出，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國是選擇之一。根據(jù)荷蘭通訊社的消息，荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組，由首相馬克·呂特親自領導，旨在與ASML進行協(xié)商以解決其對荷蘭當?shù)貏趧恿⒎ㄒ?guī)政策和供應鏈安全的擔憂。最新消息指出，荷蘭政府計
  • 關鍵字： 半導體  光刻機  ASML  

逼近極限！ASML發(fā)布第三代EUV光刻機

  • 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天，芯片制造技術的不斷革新成為了推動科技進步的關鍵力量。作為光刻技術的領軍企業(yè)，ASML近日發(fā)布的第三代EUV光刻機——Twinscan NXE：3800E，無疑為全球芯片制造業(yè)帶來了新的希望與機遇。更加先進的光刻機出現(xiàn)，不僅代表著ASML在光刻技術領域的又一次突破，更將助力芯片制造商實現(xiàn)2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現(xiàn)ASML，作為全球領先的光刻機制造商，不用過多介紹。此次發(fā)布的Twinscan NXE：3800E光刻機，是ASML在EUV光刻技術領域的又一
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML正計劃搬離荷蘭？向外擴張轉移業(yè)務成為最優(yōu)解

  • 據(jù)路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經(jīng)濟高度依賴國際貿(mào)易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
  • 關鍵字： ASML  荷蘭  EUV  佳能  光刻機  

ASML前CTO，加入ASM

  • 近日，ASM International NV（ASM）宣布提名Martin van den Brink為其監(jiān)事會成員。Martin van den Brink的任命將于5月13日提交給年度股東大會。據(jù)介紹，1984年，Martin van den Brink以工程師身份加入當時新成立的ASML，并于1995年成為技術副總裁（CTO）。1999年，他被任命為ASML管理委員會成員，2013年，他被任命為首席技術官。在擔任公司領導期間，他是推動ASML發(fā)展和技術創(chuàng)新的關鍵，這些創(chuàng)新幫助塑造了整個半導體行業(yè)。
  • 關鍵字： ASML  半導體設備  晶圓  

對話ASML｜與光同行，共赴"芯"辰大海

  • ASML作為半導體行業(yè)的全球供應商，在科技領域不斷創(chuàng)新，為客戶提供包括光刻機、計算光刻和量測在內(nèi)的"鐵三角"全景光刻解決方案。同時，公司也將人才視為追"芯"之旅的中堅力量，致力于通過挑戰(zhàn)求精（Challenge）、合作共進（Collaborate）、關愛致遠（Care）為特征的"3C文化"，以及"財務、身體、心理、社交和職業(yè)發(fā)展"這五大健康維度，幫助人才解鎖閃耀"芯"途。本期，優(yōu)興咨詢特邀ASML中國區(qū)人力
  • 關鍵字： DUV  光刻機  ASML  

ASML發(fā)布2023年度報告 綜合概述ASML持續(xù)與客戶、供應商及其他重要利益相關方共同推動發(fā)展

  • 荷蘭菲爾德霍芬，2024年2月14日——阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2023年度報告（簡稱“年報”）。報告以“小影像，大影響”為主題，展現(xiàn)了ASML的商業(yè)模式及戰(zhàn)略、公司治理以及財務表現(xiàn)情況。 年報不僅介紹了ASML對于通過科技打造更美好、更具包容性和可持續(xù)性未來的貢獻，還包含首席執(zhí)行官、首席財務官、首席技術官、首席商務官和監(jiān)事會主席及薪酬委員會主席的致辭。此外，通過年報還可以了解更多關于ASML員工對企業(yè)以及整個社會所帶來的影響。年報全文以及首席財務官Roger Dassen的年報介紹視頻已發(fā)
  • 關鍵字： ASML  2023年度報告  

ASML：2023年營收超預期，明年多款光刻機不會獲得對華出口許可

  • 預計 2024 年將是 ASML 過渡的一年，銷售額與 2023 年相似。
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML 回擊質疑：High-NA EUV 光刻仍是未來最經(jīng)濟選擇

  •  2 月 2 日消息，ASML 首席財務官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當?shù)孛襟w Bits&Chips 的采訪。在采訪中，Dassen 回應了分析機構 SemiAnalysis 的質疑，表示 High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機仍是未來最經(jīng)濟的選擇。SemiAnalysis 之前刊發(fā)文章，認為 High-NA 光刻技術將使用更高的曝光劑量，從而明顯降低單位時間內(nèi)的晶圓吞吐量。這就意味著，相較于沿用現(xiàn)有的 0.33NA EUV 光刻機并搭配多重曝光，引入 Hig
  • 關鍵字： ASML  光刻機  
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