- 據《韓國經濟日報》報道，據報道，三星將于今年晚些時候收到其首款高數值孔徑 （high-NA） EUV 掃描儀——Twinscan EXE：5200B，隨后將于 2026 年上半年推出第二臺掃描儀。報告補充說，雖然該公司已經在其華城市園區運營了一種研究用途的高 NA EUV 工具，但新系統將標志著其首次旨在大規模生產的收購。報告指出，競爭對手臺積電目前正在測試該系統的研發版本，但尚未將其部署用于商業規模制造。報道援引消息人士的話稱，SK海力士在9月份證實已經訂購了生產級高NA EUV系統。據報道援引消息人士
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三星 ASML 高數值孔值 EUV
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