- 據報道，中國通過逆向工程舊ASML工具制造出極紫外光刻原型，引起了業界關注。然而，更大的擔憂可能不在于技術追趕，而在于現有出口管制中可能存在的漏洞。根據新美國安全中心的一份報告，更大的風險源于中國持續使用舊式光刻設備——這些工具仍可用于大規模制造先進人工智能芯片——通過利用這些空白，使得上一代設備能夠在有限監管下獲得。盡管有出口管制，為什么DUVi依然重要正如報告指出的，中國芯片制造商已經找到方法推動老舊設備——不屬于當前限制的深紫外浸沒（DUVi）光刻工具——采用多模式化技術，生產出據稱性能更接近前沿的
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DUVi 光刻
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