據(jù)報道，中國通過逆向工程舊ASML工具制造出極紫外光刻原型，引起了業(yè)界關(guān)注。然而，更大的擔憂可能不在于技術(shù)追趕，而在于現(xiàn)有出口管制中可能存在的漏洞。根據(jù)新美國安全中心的一份報告，更大的風險源于中國持續(xù)使用舊式光刻設(shè)備——這些工具仍可用于大規(guī)模制造先進人工智能芯片——通過利用這些空白，使得上一代設(shè)備能夠在有限監(jiān)管下獲得。

盡管有出口管制，為什么DUVi依然重要

正如報告指出的，中國芯片制造商已經(jīng)找到方法推動老舊設(shè)備——不屬于當前限制的深紫外浸沒（DUVi）光刻工具——采用多模式化技術(shù)，生產(chǎn)出據(jù)稱性能更接近前沿的芯片。

雖然該工藝顯著降低了產(chǎn)量，減緩了生產(chǎn)速度，提高了成本，且仍不及美國及盟友制造商生產(chǎn)的最先進芯片，但報告指出，大規(guī)模部署該工藝可能使中國能夠制造足夠的芯片，提升其人工智能能力，縮小與美國的計算差距。這種做法更耗能，但報告補充說，中國以大約是美國十倍的速度擴展新能源產(chǎn)能。

中國利用DUVi技術(shù)生產(chǎn)更先進芯片的一個顯著例子是國內(nèi)初創(chuàng)企業(yè)玉梁生。據(jù)《金融時報》引述消息稱，中芯國際正在測試由本地公司開發(fā)的DUV光刻系統(tǒng)。報道稱，中國制造的28納米DUV工具通過多圖案技術(shù)制造7納米芯片。報告引用的消息人士補充說，理論上設(shè)備可以向5nm生產(chǎn)方向推進，但產(chǎn)率會顯著降低。

出口管控缺口使中國難以獲得DUVi工具

報告指出，當前的出口管制僅禁止最先進的DUVi工具銷售給中國，而較先進的DUVi系統(tǒng)僅限于特定實體，使大多數(shù)中國買家可以自由購買。報告補充稱，全球領(lǐng)先的DUVi設(shè)備供應(yīng)商ASML在2024年向中國客戶銷售了約70%的DUVi光刻系統(tǒng)。

此外，去年，中芯及其他中國公司從五大美國盟友半導體制造設(shè)備供應(yīng)商購買了價值380億美元的設(shè)備，較2022年美國對先進芯片制造工具實施出口管制時增長了66%。

報告援引消息人士稱，切斷中國對ASML常規(guī)維護的干預(yù)將在一年內(nèi)大幅削弱其DUVi車隊，有助于保持計算差距。報告補充說，ASML工具通常每六個月左右需要公司維護一次。