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海力士半導體放緩NAND Flash工藝轉換速度

作者: 時間:2011-06-10 來源:Digitimes 收藏

  南韓半導體大廠半導體(Hynix)主要 Flash產品群,近期將從原本的30納米制程轉換至20納米級制程。目前整體 Flash產量,以26納米制程產品比重逾50%為最大。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/120298.htm

  相關人員表示,26納米制程 Flash比重至2011年3月底約為40%,6月已超越50%,月底可望提升到50%中段。26納米制程產品將逐漸取代32納米制程產品,成為海力士主力產品。

  NAND Flash為非揮發性內存芯片,即使中斷供電也能儲存信息,是智能型手機、平板計算機等行動裝置的主要內存。若采用26納米制程生產的NAND Flash,可縮減單一晶圓生產的半導體尺寸,生產性較32納米制程提升60%以上。

  尤其26納米制程在生產32Gb和64Gb等高容量NAND Flash產品時,較32納米制程更有利,可積極應對近來以行動裝置為中心暴增的內存需求趨勢。

  海力士目前正在忠清北道清州廠增建NAND Flash專用廠M11,而M11大部分為26納米制程設備。海力士相關人員表示,海力士2011年將會致力強化NAND Flash競爭力,在轉換至26納米制程后,計劃2011年下半開始投入20納米制程NAND Flash量產。另一方面,海力士2010年第3季到第4季,在NAND Flash市場的市占率從9.4%攀升至10.4%,2011年第1季擴大至10.7%。



關鍵詞: 海力士 NAND

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