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羅姆推出業內頂級34mΩ的低導通電阻

—— 采用Si深蝕刻技術的超結MOSFET開始量產
作者: 時間:2011-10-14 來源:電子產品世界 收藏

         日本知名制造商(總部:日本京都市)面向太陽能發電的功率調節器市場,開發出實現了業內頂級低導通電阻的高耐壓功率MOSFET“R5050DNZ0C9”(500V/50A/typ,34mΩmax45mΩ)。

         本產品采用散熱性卓越的TO247PLUS封裝,于9月中旬開始提供樣品(樣品價格:1000日元/個),并計劃于2011年12月份開始投入量產。

本文引用地址:http://cqxgywz.com/article/124608.htm

        隨著節能趨勢漸行漸強,作為可再生能源的代表,太陽能發電市場規模不斷擴大。其功率調節器領域,正在努力通過電源轉換效率的改善實現節電,因此對實現更低損耗的功率MOSFET的需求不斷高漲。羅姆此前也一直利用多層外延生長方式,為客戶提供多層縱向pn結的超結結構的功率MOSFET,持續為高效化作出了貢獻。但是,由于這種方式的制造工序復雜,因此具有難于微細化和提高生產性能的課題。

        此次,羅姆采用縱向p層一次成型的Si深蝕刻技術,通過微細化及雜質濃度的優化,與傳統產品相比,將導通電阻成功降低了約47%。此產品不僅非常適合低導通電阻容易體現出來的轉換器部分,而且與羅姆制造的快速恢復二極管或SiC肖特基勢壘二極管等相組合,還可應用于逆變器。由于可以大幅降低電源轉換時的損耗,因此將會大大有助于提高太陽能發電的效率。另外,為了適用于更多種類的電路方式,羅姆在采用本技術進一步完善高耐壓產品線的同時,還將不斷擴充“PrestoMOS”系列。

        羅姆今后也會繼續利用獨創的先進工藝加工技術,不斷推進滿足顧客需求的前瞻性晶體管產品的開發。另外,本產品預計在10月4日~8日在千葉幕張會展中心舉辦的“CEATEC JAPAN2011”的羅姆展臺亮相。屆時歡迎大家光臨羅姆展臺。



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