據悉，日本昭和電工日前宣布，計劃建設上海第二工廠，增產半導體材料。

昭和電工株式會社（簡稱昭和電工）表示，為了強化電子材料用高純度氣體事業，決定在上海的生產基地-上海昭和電子化學材料有限公司（以下簡稱“SSE”）的旁邊取得第二工廠建設用地，建設高純度一氧化二氮和高純度八氟環丁烷的生產設施，以及高壓氣體危險品倉庫。第二工廠擬于2021年下半年投產。

上海第二工廠計劃面積約10,000平方米，計劃高純度一氧化二氮年生產能力1,000噸，計劃高純度八氟環丁烷年生產能力600噸。 

高純度一氧化二氮主要是半導體及顯示屏制造時的氧化膜的氧來源的特種氣體，高純度八氟環丁烷主要是這種氧化膜的微細加工（蝕刻）時的特種氣體。

昭和電工表示，由于5G等信息通信領域的發展，預計今后中國大陸的半導體及顯示屏市場（有機EL電視機等）將會擴大。

另外，昭和電工還表示，由于預計中國臺灣地區的半導體市場同樣也會擴大，本公司的現地生產子公司“臺灣昭和化學品生產股份有限公司”也將新建年產150噸高純度八氟環丁烷的生產設施（計劃2020年春投產）。本次在上海和臺灣的投資總額約為30億日元（約合人民幣1.9億元）。

目前，昭和電工在川崎事業所和韓國基地生產高純度一氧化二氮，并在川崎事業所和上海基地（SSE第一工廠）生產高純度八氟環丁烷。