據相關報道，隨著NVIDIA宣布AI服務器進入800V高電壓供電時代，功率半導體領域迎來了新的技術競爭。氮化鎵（GaN）作為寬能隙半導體的重要代表，正成為市場關注的核心。

近年來，多家企業積極投入GaN技術的研發，使其應用范圍從傳統的消費性市場逐步拓展到高電壓場景。盡管GaN目前在快速充電領域仍占據主導地位，但其在車用功率模塊和AI服務器中的表現也日益受到重視。部分廠商甚至已開發出適用于1,000V以上環境的GaN技術，展現出廣闊的應用前景。

歐系廠商指出，GaN相比碳化硅（SiC）更易于與傳統矽材料整合，這不僅降低了開發難度，還提升了開發效率，有助于壓縮系統成本。在AI服務器中，GaN憑借其極高的開關速度，能夠有效應對AI模型運算中的電壓波動，成為供電方案中的關鍵材料。

當前，AI服務器的設計趨勢是將運算與供電模塊分離，同時追求更小的功率半導體體積和更高的功率密度。寬能隙半導體的使用量因此大幅增加，而GaN憑借其技術優勢，預計將在未來AI服務器供電領域占據重要地位。

包括英飛凌（Infineon）、意法半導體（STM）、羅姆（Rohm）和德州儀器（TI）等在內的功率半導體整合元件制造商（IDM），以及Power Integrations等IC設計企業，均已為GaN技術與量產做好準備。業內人士表示，GaN的技術突破已成為搶占AI服務器市場的重要因素。