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光刻機(jī) 文章 最新資訊

AMSL的光刻機(jī)如何能賣上億美元?

  • 在晶圓加工設(shè)備中,光刻機(jī)所占的投資比高達(dá)30%,同時(shí)一臺(tái)AMSL的EUV光刻機(jī)售價(jià)上億美元,當(dāng)我國(guó)企業(yè)有足夠能力參與到與國(guó)際巨頭競(jìng)爭(zhēng)之時(shí),即是芯片技術(shù)迎頭趕上的那一天。
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ASML看好中國(guó)市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

  •   中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加,他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題。  盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德,格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā),但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀。  此前有消息指出,中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)明年交付,用于7nm節(jié)點(diǎn)。  同時(shí),傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面,沈波稱,今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT:2000i,很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見到
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迫于美國(guó)政府壓力,光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國(guó)員工 ...

  •   在高科技領(lǐng)域,美國(guó)這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范,不只限于美國(guó)本土,就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工。  在光刻機(jī)領(lǐng)域,荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng),在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份,7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域,美國(guó)這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范,不只限于美國(guó)本土,就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工。  如果說半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠,那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠,因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工藝

  •   據(jù)外媒報(bào)道,光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī)),可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)。  NXT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充,畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。  同時(shí),NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品,達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。  ASML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī):邁向14nm

  •   中芯國(guó)際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī),未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片,長(zhǎng)江存儲(chǔ)也迎來了自己的第一臺(tái)光刻機(jī),同樣來自ASML,不過是193nm沉浸式,用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,7200萬美元一臺(tái)。  據(jù)集微網(wǎng)報(bào)道, 5月21日上午,在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū),華虹集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營(yíng)運(yùn)的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目(“華虹六廠”)實(shí)現(xiàn)首臺(tái)工藝設(shè)備光刻機(jī)搬入。  這臺(tái)光刻機(jī)的型號(hào)是NXT 1980Di,依然是荷蘭ASML提
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探秘中國(guó)通信芯片那些事:行業(yè)中流砥柱

  • 中美經(jīng)貿(mào)關(guān)系開始緩和,未來在高科技領(lǐng)域的合作將更多,競(jìng)爭(zhēng)也將更加激烈。
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價(jià)值7200萬美元,長(zhǎng)江存儲(chǔ)首臺(tái)光刻機(jī)運(yùn)抵武漢

  •   長(zhǎng)江存儲(chǔ)的首臺(tái)光刻機(jī)已于今天中午運(yùn)抵武漢天河機(jī)場(chǎng),設(shè)備相關(guān)的海關(guān)、商檢及邊防口岸的相關(guān)手續(xù)辦理完成后,即可運(yùn)至長(zhǎng)江存儲(chǔ)的工廠。據(jù)集微網(wǎng)獨(dú)家消息,這臺(tái)光刻機(jī)為ASML的193nm浸潤(rùn)式光刻機(jī),售價(jià)7200萬美元,用于14nm~20nm工藝。這也從側(cè)面透露了長(zhǎng)江存儲(chǔ)3D NAND閃存芯片的工藝制程。這是長(zhǎng)江存儲(chǔ)的第一臺(tái)光刻機(jī),陸續(xù)還會(huì)有多臺(tái)運(yùn)抵。  圖:ASML的光刻機(jī)安全降落武漢天河機(jī)場(chǎng),正在卸貨中  在今年的4月5日,長(zhǎng)江存儲(chǔ)首批400萬美元的精密儀器開始進(jìn)場(chǎng)安裝,標(biāo)志著國(guó)家存儲(chǔ)器基地從廠房建設(shè)階段進(jìn)
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這些“細(xì)節(jié)”讓中國(guó)難望頂級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)背

  • 真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來的。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù),差距在哪,需要從哪些方面突破?
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上海微電子采購(gòu)Bumotec機(jī)床 加速中國(guó)光刻機(jī)研發(fā)

  •   去年,一臺(tái)價(jià)值1.06億元設(shè)備經(jīng)空運(yùn)從荷蘭飛抵廈門,由于該設(shè)備價(jià)值高,而且對(duì)保存和運(yùn)輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下,為了避免影響設(shè)備的精度,在運(yùn)輸中也對(duì)穩(wěn)定性有極高的要求。因此,機(jī)場(chǎng)海關(guān)以機(jī)坪查驗(yàn)的方式對(duì)該貨物實(shí)行全程機(jī)邊監(jiān)管,待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關(guān)的機(jī)坪視頻監(jiān)控探頭之下,在完成緊急查驗(yàn)后當(dāng)晚就放行。   沒錯(cuò),這臺(tái)設(shè)備就是荷蘭ASML的光刻機(jī)。鐵流猜測(cè),這臺(tái)設(shè)備很有可能是廈門當(dāng)?shù)卣c臺(tái)灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購(gòu)的。
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半導(dǎo)體廠商無不識(shí)君 聊一聊隱形大佬ASML

  • ASML是集合了西方光學(xué)應(yīng)用科學(xué)與半導(dǎo)體尖端制造設(shè)備技術(shù)于一體的科技龐然大物,它的影響力是任何一個(gè)國(guó)家在半導(dǎo)體領(lǐng)域都無法忽視的。
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光刻機(jī)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)接近世界先進(jìn)水平,9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破

  •   SEMICON China 2017開幕日即3月14日,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡(jiǎn)稱“SMEE”)宣布,SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。   根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄,ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后,進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國(guó)的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。   光刻機(jī)被稱
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耗費(fèi)巨資購(gòu)買EUV光刻機(jī) 臺(tái)積電有何打算?

  • 臺(tái)積電、三星與英特爾之間先進(jìn)制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開,三方比拼毫不手軟。
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片內(nèi)相位測(cè)量工具模擬光刻機(jī)

  • 關(guān)鍵字:片內(nèi)相位測(cè)量 模擬光刻機(jī)采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑(NA)的193nm光刻機(jī)和相位移掩膜版(PSM),使得光刻分辨率的極限達(dá)到了32nm節(jié)點(diǎn)。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級(jí)遞增,而業(yè)界又迫切需要
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ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑

  •   ASML近日宣布,兩位使用TWINSCAN 光刻機(jī)的芯片制造商實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)新紀(jì)錄,即在24小時(shí)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個(gè)里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實(shí)現(xiàn)的,兩家使用者為亞洲的不同客戶。設(shè)備幫助他們提高了300mm光刻生產(chǎn)能力。  
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沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺 臺(tái)系內(nèi)存芯片廠制程升級(jí)受阻

  •   據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露,由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺,因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購(gòu)的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對(duì)這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級(jí)別制程至關(guān)重要,因此預(yù)計(jì)臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進(jìn)度 會(huì)受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機(jī),可用于制造12英寸32nm及以上級(jí)別制程的產(chǎn)品.   此前曾有報(bào)道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長(zhǎng)到了將近12個(gè)月,
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光刻機(jī)介紹

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī),300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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